Partulab RMS-1000P高溫四探針測量系統主要用于評估半導體薄膜和薄片的導電性能，該系統采用直排四探針測量原理和單晶硅物理測試方法國家標準并參考美國A.S.T.M標準設計研發，可以實現高溫、真空及惰性氣氛條件下測量硅、鍺 單晶（棒料、晶片）電阻率和硅外延層、擴散層和離子注 入層的方塊電阻以及測量導電玻璃（ITO）和其它導電薄膜的方塊電阻和電阻率。該系統廣泛應用于高?？蒲性核推髽I單位半導體薄膜和薄片材料電學性能研究。
已申請實用新型專利 專利號：ZL 2015 2 0667725.6
RMS-1000P 系列高溫導電材料電阻率測量系統
用四探針技術測量半導體薄層電阻的新方案
薄膜、硅片電阻率測量標準
雙電測組合測量
目前雙電測組合（亦稱雙位組合）四探針法有三種模式:模式（1），模式（2），模式（3），RMS-1000P高溫半導體材料四探針測量系統采用模式（2），通過計算機對三種模式的理論進行比較研究的結果證明：對無窮大被測片三種模式都一樣，可是測量小片或大片邊緣位置時，模式（2）更好，它能自動消除邊界影響，略優于模式（3），更好于模式（1）.
雙電測組合法測試薄膜/薄片的基本原理和方法
業內最可靠的高溫四探針測量系統
— 為您開啟測量新視野—
01
集成一體化設計
高溫爐膛、測量夾具、測量軟件集成于一體
高溫爐膛、測量夾具、測量軟件集成于一體
■ 高溫爐膛、測量夾具、顯示及軟件集成于一體，測量精度更高，儀器更加穩定且易維護；
■ 爐膛采用進口金屬材料，耐高溫、抗氧化，可實現多種環境下的電學測量；
■ 彈簧夾具采用半球狀+平板狀電極結構，讓系統的重復性和穩定性更高；
■ 集成10.1”電容觸摸寬屏顯示，軟件操作更加流暢，體驗感更好；
■ 控溫和測量采用同一個傳感器，保證樣品每次采集的溫度都是實際溫度；
■ 最新的RMS系列機型采用RAM嵌入式開發平臺，可以進行在線升級、遠程協助及故障診斷；
02
多功能真空電學加熱爐
可實現高溫、真空、氣氛測量環境
可實現高溫、真空、氣氛測量環境
■ 電動升降爐膛設計，操作簡單，使用方便；
■ 高溫爐膛采用進口纖維一體開模鑄造而成，最高溫度可達1000℃；
■ 爐膛內部配有超溫報警電路，確保爐膛不易燒壞，采用先進的工程塑料開模，外表美觀；
■ 采用三段PID精確控溫，實現不同溫度區間的精確控溫，控溫精度達到±0.5℃；；
■ 爐膛升溫故障診斷監控設計，隨時監測爐膛運行情況；
■ 可以測量半導體薄膜和薄片材料的方塊電阻、電阻率；
■ 雙電測組合測量，消除探針和樣品的自身影響；
■ 可以自動調節施加在樣品的測試電壓，以防樣品擊穿；
■ 耐高溫四探針夾具，碳化鎢探針，99氧化鋁陶瓷絕緣；
■ 系統自帶溫度校準功能，讓測量溫度盡可能與樣品實際溫度保持一致。
03
經典直排四探針設計
特殊半球狀針尖、避免薄膜樣品損壞
專業薄膜電學測試軟件
獲得國家軟件著作權保護（2015SR140507）
獲得國家軟件著作權保護（2015SR140507）
特點：
■ 集成一體化設計，觸摸屏控制和顯示，具有卓越的易用性；
■ 可以實現常溫、變溫、恒溫條件的I-V、R-T、R-t等測量功能；■ 可以通過輸入樣品的面積和厚度，軟件自動計算樣品的電阻率pv；
■ 可以分析電阻率pv與溫度T的變化曲線；
■ 可以通過USB傳輸數據，數據格式為Excel格式。
04
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